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无锡汇泉净化设备有限公司
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半导体中的杂质对电阻率的影响非常大。半导体中掺入微量杂质时,杂质原子附近的周期势场受到干扰并形成附加的束缚状态。
一、半导体材料工业纯水设备介绍:
工业纯水设备主要采用反渗透处理工艺,一般也被我们可以称之为反渗透去离子水设备,反渗透设备是一种需要利用压力进行反渗透(半透过)性膜的力能以压力为推动力的反渗透膜分离科学技术,当进水中所加的压力影响大于进水标准溶液渗透压时,水分子不断地提高透过膜,经过产水流道流入纯水水箱,然后在一端流出水中的杂质,如大离子、有机物等,被截留在膜的进水侧,然后在浓水出水端流出,从而能够达到一个分离得到净化水源目的。
二、半导体材料工业纯水设备组成:
成套工业纯水设备一般包括预处理系统,反渗透装置,后处理系统,清洗系统和电气控制系统等..预处理系统通常包括原水泵,石英砂过滤,活性炭过滤,树脂过滤,软化和其它精密的过滤器。其主要作用是可以降低原水的污染指数和余氯等其他一些杂质,达到提高反渗透的进水设计要求。预处理装置配置系统应根据原水的具体情况。
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