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半导体生产专用纯水设备

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更新时间:2022-03-31 13:21:30浏览次数:412

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产品简介

半导体生产专用纯水设备设备型号YB-CJS-030产水量30T/H适用范围1、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路成品、半成品用超纯水

详细介绍

半导体生产专用纯水设备

  • 设备型号

    YB-CJS-030
  • 产水量

    30T/H
  • 适用范围

    1、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路成品、半成品用超纯水;2、超纯材料和超纯化学试剂勾兑用超纯水;3、实验室和中试车间用超纯水;4、汽车、家电表面抛光处理;5、光电子产品;6、其他高科技精微产品。
产品介绍

  硅片,是制作集成电路的重要材料,通过对硅片进行光刻、离子注入等手段,可以制成各种半导体器件。用硅片制成的芯片有着惊人的运算能力。科学技术的发展不断推动着半导体的发展。自动化和计算机等技术发展,使硅片(集成电路)这种高技术产品的造价已降到十分低廉的程度。这使得硅片已广泛应用于航空航天、工业、农业和国防,甚至悄悄进入每一个家庭。

工艺设计
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透设备→中间水箱→中间水泵→离子交换器→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→用水点
设备特点

  1、连续运行禅水质稳定品质更佳。

  2、系统运行可靠性稳定。

  3、运行成本低。

  4、占地面积小。

  5、自动化程度高。

  6、操作及维护简单,无需接触酸碱。

  7、使用安全及环境良好。

  8、无污水排放,无环境污染。

技术参数
电导率:2-10μS/cm(25℃)
PH值:6.5-9
水温度:5~35℃
总硬度:<0.5ppm
有机物:<0.5 ppm,TOC为零
氧化物:≤0.05ppm
铁、锰:<0.01ppm
二氧化硅:<0.05 ppm
二氧化碳:<5ppm

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